●8位专家展望EUV光刻技术（二）
承接上一部分，本短采访内容仍然来自GlobalSources电子工程专辑于2010年05月07日发表的采访。这次访谈的作者为来自电子工程专辑马立得先生。
3、Burn Lin
——台湾半导体制造有限公司微成型部高级主管
“该行业在某项技术上下的赌注太多。我认为把所有鸡蛋放在一个篮子里是很危险的。很多人都明白其中的道理。”
4、Kurt Ronse
——IMEC公司光刻技术部总监
“我认为我们在沿着正确的方向前进，因为目前还没有很多替代办法；我们或者停止缩小尺寸，或者继续推动EUV技术。”
“EUV技术已经取得了很大的进步，该技术还没有大功告成，现在仍然有许多工作要做。但是在我看来，EUV和其他替代技术之间的差距在过去一年已经增大。目前其它替代技术都没能取得多大进展，而且它们在获取资金方面也面临困难。替代技术要达到目标将面临很大困难。这些替代技术必须专注于16或11纳米，因为它们拥有一些达到目标的方法和手段。如果继续专注于32纳米或22纳米，则会错过自己的目标。”
5、Walden Rhines
——Mentor Graphics公司董事长兼CEO
“包括OPC和其它分辨率增强技术在内的计算光刻，是能够把我们从光刻机不断飙升的成本中解救出来的技术。在过去10年中，计算光刻在EDA市场上占有可用市场总量(TAM)的最大份额。”
6、DanRubin
——Alloy Ventures公司风险投资专家
“日趋明显的一个现象，就是EUV技术无法充分利用传统光学光刻技术的基础架构。这个新颖的技术创新，要求EUV资源和反射型掩模供应链，而这个供应链尚未建立，另外，缺陷检测仍然需要大量投入、雄厚的资金以及进度方面的调整。即使完整技术解决方案所需的各部分能够准时组合，EUV高昂的成本也会令人无法承受，从而影响先进存储器设备的采纳。”
“在内存芯片市场，我一直支持压印光刻技术。依靠不到1亿美元的总投资，MolecularImprints公司(MII)已取得了令人难以置信的进展，而且性能改进的步伐在持续前进。其CMOS工具的可用性和硬盘驱动工具的吞吐量，从技术角度来看颇令人震惊。如果将投入在EUV上的金钱和业内关注分一部分给它，MII今天可能已经有了次32纳米CMOS生产工具。”
7、Mark Melliar-Smith
——纳米压印光刻供应商MII公司CEO
“这个行业限制了自己的发展前景。现在，它太过于关注单一解决方案。我认为这样不好。如果MII公司有去年EUV资金的1/12，我们可能已经在解决半导体市场众多遗留问题方面前进了很远，并已经做好12至18个月内投产的准备。”
8、KazuoUshida
——尼康旗下精密设备有限公司总裁
“对于小批量生产，EUV看起来很有前途。但是EUV赶不上22纳米半节距路线图。EUV将会在晚些时候出现，也许会赶上16纳米节点。我们还没有计量工具。开发掩模工具将需要两年时间。”